濺射鍍膜就是用高能粒子(通常是由電場加速的正離子)轟擊固體表麵，固體表麵的原子、分子與入射的高能粒子交換動能後從固體表麵飛濺出來的現象稱為濺射。

　　濺射出來的原子(或原子團)具有—定的能量，它們可以重新沉積凝聚在固體基片表麵上形成薄膜，稱為濺射鍍膜。通常是利用氣體放電產生氣體電離，其正離子在電場作用下高速轟擊陰極靶材，擊出陰極靶材的原子或分子，飛向被鍍基片表麵沉積成薄膜。

　　具有一定能量的離子入射到靶材表麵時，入射離子與靶材中的原子和電子相互作用，可能發生如圖1 所示的一係列物理現象。

　　其一是引起靶材表麵的粒子發射，包括濺射原子或分子、二次電子發射、正負離子發射、吸附雜質解吸和分解、光子輻射等;

　　其二是在靶材表麵產生一係列的物化效應，有表麵加熱、表麵清洗、表麵刻蝕、表麵物質的化學反應或分解;

　　第三是一部分入射離子進入到靶材的表麵層裏，成為注入離子，在表麵層中產生包括級聯碰撞、晶格損傷及晶態與無定型態的相互轉化、亞穩態的形成和退火、由表麵物質傳輸而引起的表麵形貌變化、組分及組織結構變化等現象。

　　被荷能粒子轟擊的靶材處於負電位，所以也稱濺射為陰極濺射。將物體置於等離子體中，當其表麵具有一定的負電位時，就會發生濺射現象，隻需要調整其相對等離子體的電位，就可以獲得不同程度的濺射效應，從而實現濺射鍍膜，濺射清洗或濺射刻蝕以及輔助沉積過程。

　　濺射鍍膜、離子鍍和離子注入過程中都利用了離子與材料的這些作用，但側重點不同。

　　濺射鍍膜中注重靶材原子被濺射的速率;離子鍍著重利用荷能離子轟擊基片表層和薄膜生長麵中的混合作用，以提高薄膜附著力和膜層質量;而離子注入則利用注入元素的摻雜、強化作用，以及輻照損傷引起的材料表麵的組織結構與性能的變化。

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