由於靶材種類繁多，常用靶材一般通過真空感應熔煉、真空電弧熔煉、真空電子轟擊熔煉，真空熱壓，氣體保護熱壓，熱等靜壓等冶金手段製造，加工工藝視材料的物理特性而定。

　　根據材料組織結構的不同，可獲得單相、多相晶體組織，也可獲得固溶體或金屬間化合物，還根據需要獲得有序或無序結構，這些對製成薄膜都是相當重要的，因為一個好的二維結構的薄膜很大程度上取決於三維結構的靶材。

　　為了在靶材製備過程中質量控製，一般采用輝光放電質譜儀、原子吸收光譜儀、電磁感應偶合等離子體光譜儀、X射線顯微熒光光譜儀、掃描電子顯微探針、X射線衍射儀等設備進行質量追蹤。

　　為了獲得理想的薄膜，應要求靶材在幾何尺寸和形狀上非常均勻，有時為了使用方便還需將靶材與靶托進行Bonding。

　　靶材與當代許多先進科學技術有關，它的應用十分廣泛，如在電子薄膜、光學薄膜、機械薄膜、防護薄膜、裝飾薄膜等方麵，而且，這些領域對靶材的性能要求越來越嚴格。

　　當高速粒子實現濺射可在任何物質上發生，尤其高熔點、低氣壓和化合物等物質都可以製成靶材，金屬及合金、難熔金屬、矽化物、氧化物、氮化物、貴金屬及其合金、磁性金屬及合金、稀土材料。

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