真空蒸發鍍膜是PVD技術中發展最早、應用較為廣泛的鍍膜技術。

　　雖然後來發展起來的濺射鍍和離子鍍在許多方麵要比真空蒸發鍍膜優越，但真空真空蒸發鍍膜技術仍有很多優點。

　　比如設備與工藝相對後者比較簡單，即可鍍製非常純淨的膜層，又可製備具有特定結構和性質的膜層等，所以真空蒸發鍍膜技術仍然是當今非常重要的鍍膜技術。

　　近年來，由於電子轟擊蒸發，高頻感應蒸發及激光蒸發等技術在蒸發鍍膜技術中的廣泛應用，使這一技術更趨完善。

　　真空蒸發鍍膜的工作原理是將膜材置於麻豆成人影院在线观看室內，通過蒸發源加熱使其蒸發，當蒸發分子的平均自由程大於麻豆成人影院在线观看室的線性尺寸時，蒸汽的原子和分子從蒸發源表麵逸出後，很少受到其他分子或原子的衝擊阻礙，可直接到達被鍍的基片表麵，由於基片溫度較低，便凝結其上而成膜，為了提高蒸發分子與基片的附著力，對基片進行適當的加熱是必要的。

　　為使蒸發鍍膜順利進行，應具備蒸發過程中的真空條件和製膜過程中的蒸發條件。

　　1.蒸發過程中的真空條件

　　麻豆成人影院在线观看室內蒸汽分子的平均自由程大於蒸發源與基片的距離(稱做蒸距)時，就會獲得充分的真空條件。

　　因此為了增加殘餘氣體的平均自由程，借以減少蒸汽分子與殘餘氣體分子的碰撞概率，把麻豆成人影院在线观看室抽成高真空是非常必要的。

　　麻豆成人影院在线观看過程中對真空度的要求並非是越高越好，因為在麻豆成人影院在线观看室內真空度超越10-6Pa時，必須對麻豆AV免费在线播放烘烤去氣才能達到。

　　由於烘烤去氣會造成基片的汙染，因此在不經過烘烤去氣時即可得到10-5Pa的高真空下製膜，其膜的質量不一定比超高真空下所製備的膜的質量差，這一點是值得注意的。

　　因此，在真空蒸發鍍膜設備中，鍍膜室所選用的真空度一般均應高於10-2Pa，低於10-5Pa。

　　2.製膜過程中的蒸發條件

　　1)真空條件下物質的蒸發特點

　　膜材加熱到一定溫度時就會發生汽化現象，即由固相或液相進入到氣相中，由於真空條件下物質蒸發比在常壓下容易得多，因此所需的蒸發溫度將大幅度下降，熔化蒸發過程將大大縮短，蒸發效率將明顯地提高。

　　舉個例子，以金屬鋁為例，在一個大氣壓下，鋁必須加熱到2400℃才能蒸發，但是如果在10-3Pa的真空條件下隻要加熱到847℃就可以大量蒸發。

　　以上就是国产麻豆内射视频真空為各位帶來的真空蒸發鍍膜技術的原理和工作條件，希望對各位有所幫助。