鎂合金質地輕，比強度高、導熱性好、加工性能優良，在航空航天工業、交通、光學儀器、電子工業、電訊、音響材料等領域的應用日益廣泛。　　

但是鎂合金的力學性能低，耐蝕性能差，嚴重影響其在一些關鍵場合長期使用，因此必須對鎂和鎂合金采取有效的防護措施。磁控濺射鍍膜技術由於對環境和人體危害小而逐漸被人們所重視。

　　本文采用反應磁控濺射技術，以氬氣為濺射氣體，氮氣為反應氣體，在AZ31鎂合金表麵成功製備出了氮化鉻薄膜。

　　X射線衍射(XRD)用來分析所得薄膜的物相結構，場發射掃描電鏡(FESEM)用來觀察薄膜的表麵和截麵形貌。

　　電化學工作站用來評價鍍膜後鎂合金在氯化鈉溶液中的耐蝕性能，摩擦磨損儀用來評價膜基係統的耐磨性能。結果顯示，采用-300V的偏壓時，可獲得微觀結構致密的氮化鉻薄膜，XRD分析顯示該薄膜晶粒細小。

　　但由於薄膜上還有微裂紋的存在，因此在氯化鈉溶液中，膜基係統易在這些區域發生電偶腐蝕。極化曲線證實鍍膜後鎂合金的腐蝕電流密度有所增加，即膜基係統耐蝕性能降低。

　　磨損實驗結果顯示，鍍膜後鎂合金的摩擦係數增加，但是磨痕寬度明顯減小。

　　磨痕處有凸起存在，能譜分析表明，該凸起主要是摩擦副材料(SUJ-2軸承鋼)轉移粘附而形成。

　　由於膜層材料具有較好的抗磨損性能，因此鍍膜後鎂合金的耐磨性能得到提高。

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