當前位置:網站首頁 > 技術中心

技術中心 Technology

磁控濺射靶材的承載功率分析?
發布時間:2014-10-08 瀏覽:6326 次

  1、靶材麵積與承載功率範圍

  (1) 圓形平麵磁控靶功率密度範圍一般為1~25瓦/cm2。

  (2)矩形平麵磁控靶功率密度範圍一般為1~36瓦/cm2。

  (3)柱狀磁控靶、錐形平麵磁控靶(S槍)功率密度範圍一般為40~50瓦/cm2。

  2、磁控靶實際承載功率

  磁控靶的實際的承載功率除了與濺射工藝、薄膜的質量要求等因數有關外,主要與靶的冷卻狀況和散熱條件密切相關。

  磁控靶按其冷卻散熱方式的不同,分為“靶材直接水冷卻”和“靶材間接水冷卻”兩種。

  考慮到濺射靶長期使用老化後,其散熱條件變差;兼顧各種不同靶材材質的散熱係數的不同,磁控靶的最終使用時的承載功率,直接水冷卻靶實際的承載最大功率可按略小於功率密度範圍的上限選取;間接水冷卻靶的實際承載最大功率可按功率密度範圍上限值的二分之一左右選取。

  磁控靶材(主要是Cu,Ag,黃銅(Brass)和Al青銅(Al bronze) “自濺射”時,一般是選用經過專門設計“靶材直接水冷卻”的磁控濺射靶。

  其最終使用時的承載功率,均需大於靶功率密度範圍的上限值(即>100W/cm2以上)。

  本文由国产麻豆内射视频真空(http://www.jjzhan.com)收集整理,我公司專業提供進口麻豆AV免费在线播放銷售和維修服務,歡迎來電谘詢!

推薦閱讀

金屬表麵沉積原理分析

真空熱處理技術原理分析

  
網站地圖