蒸發鍍膜是加熱靶材使表麵組分以原子團或者離子形式被蒸發出來，且沉降在基片表麵，通過成膜過程(散點-島狀結構-迷走結構-層狀生長)形成薄膜。

　　蒸發鍍膜組分均勻性不是非常容易保證，具體能調控因素同上，但因為原理有限，對非單一祖分鍍膜，蒸發鍍膜的組分均勻性不好。

　　濺射鍍膜能簡單理解為利用電子或者高能激光轟擊靶材，並使表麵組分以原子團或者離子形式被濺射出來，且最終沉積在基片表麵，經曆成膜過程，最終形成薄膜。

　　濺射鍍膜又分成許多種，和蒸發鍍膜的不同之處就是在於濺射速率將成為主要的參數之一。

　　濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性非常容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對比較差(因為是脈衝濺射)，晶向(外沿)生長的控製也比較一般。

　　本文由麻豆成人影院在线观看機廠家收集整理，僅供真空愛好者學習交流，本站不具有版權!

推薦閱讀

CVD技術和工作原理分析　

常見的蒸發鍍膜技術分析